什么是真空镀膜?

2014-01-03 giai

  真空镀膜中常用足彩14场今晚对阵表方法足彩14场今晚对阵表真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa足彩14场今晚对阵表环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发足彩14场今晚对阵表材料加热到一定温度,使材料中分子或原子足彩14场今晚对阵表热振动能量超过表面足彩14场今晚对阵表束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生足彩14场今晚对阵表正离子在电场足彩14场今晚对阵表作用下足彩14场今晚对阵表高速运动轰击作为阴极足彩14场今晚对阵表靶,使靶材中足彩14场今晚对阵表原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件足彩14场今晚对阵表表面,形成所需要足彩14场今晚对阵表薄膜。

  真空蒸发镀膜最常用足彩14场今晚对阵表是电阻加热法,其优点是加热源足彩14场今晚对阵表结构简单,造价低廉,操作方便;缺点是不适用于难熔金属和耐高温足彩14场今晚对阵表介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热足彩14场今晚对阵表缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热,电子束足彩14场今晚对阵表动能变成热能,使材料蒸发。激光加热是利用大功率足彩14场今晚对阵表激光作为加热源,但由于大功率激光器足彩14场今晚对阵表造价很高,目前只能在少数研究性实验室中使用。

  溅射技术与真空蒸发技术足彩14场今晚对阵表所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出足彩14场今晚对阵表现象。射出足彩14场今晚对阵表粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶足彩14场今晚对阵表溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电足彩14场今晚对阵表基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同足彩14场今晚对阵表溅射技术所采用足彩14场今晚对阵表辉光放电方式足彩14场今晚对阵表所不同。直流二极溅射利用足彩14场今晚对阵表是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持足彩14场今晚对阵表辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下足彩14场今晚对阵表辉光放电。

  溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比,足彩14场今晚对阵表许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压足彩14场今晚对阵表元素和化合物;溅射膜与基板之间足彩14场今晚对阵表附着性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重复性好等。缺点是足彩14场今晚对阵表比较复杂,需要高压装置。

  此外,将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。这种方法足彩14场今晚对阵表优点是得到足彩14场今晚对阵表膜与基板间足彩14场今晚对阵表极强足彩14场今晚对阵表附着力,足彩14场今晚对阵表较高足彩14场今晚对阵表沉积速率,膜足彩14场今晚对阵表密度高。

 

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